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ASML

(資料圖片)

福無雙至，禍不單行。在日本宣布23項出口管制之后，荷蘭也將于6月末或7月初公布半導(dǎo)體管制的具體細則，美國、日本、荷蘭所構(gòu)筑的芯片三方協(xié)議的“鐵幕”也將正式成型。

美日荷是中國最大的芯片設(shè)備進口國

無論是日本的半導(dǎo)體材料還是荷蘭的半導(dǎo)體設(shè)備，美、日、荷三個國家也正好是中國半導(dǎo)體設(shè)備進口排名前三的國家。在總共410億美元年的進口額中，日本以118億美元排名第一，美國以68億美元排名第二，荷蘭以25億美元排名第三。

這也是為什么美國要竭力推動美日荷三方芯片協(xié)議的原因——以往僅有美國一方采取限制措施時，日本和荷蘭則趁機加大半導(dǎo)體領(lǐng)域的出口，這也導(dǎo)致美國在芯片領(lǐng)域的優(yōu)勢被不斷蠶食，中日荷則成為潛在的贏家，2022年中國芯片產(chǎn)量達到億塊就是這一現(xiàn)象的最好寫照。

光刻機

也正是因為發(fā)現(xiàn)了這一問題，美國才后知后覺并強迫日、荷兩國一同采取限制，試圖從半導(dǎo)體上游開始進行封鎖，其中來自于ASML的光刻機更是其中的重頭戲。

作為芯片制造的核心設(shè)備，光刻機是發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)無法繞過的一道環(huán)節(jié)，頂級可用于7nm及更先進制程的EUV光刻機每臺售價超過12億元，可以說是名副其實的“吞金獸”。而即使造價如此高昂，EUV光刻機依然供不應(yīng)求，如今中國芯片市場雖然欣欣向榮，但由于封鎖導(dǎo)致依然連一臺EUV光刻機都沒有，這也是制約國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)向7nm制程發(fā)起挑戰(zhàn)的關(guān)鍵因素。

外媒報道荷蘭將公布管制細節(jié)

根據(jù)路透社等多家媒體報道，在加入芯片三方協(xié)議之后，荷蘭將增加在光機領(lǐng)域的限制，將范圍從EUV光刻機向DUV光刻機擴展。相比于用于先進制程的EUV光刻機，DUV光刻機被廣泛應(yīng)用于14nm~56nm之間，是使用數(shù)量最多的光刻機。一旦荷蘭選擇將DUV光刻機也加入到限制行列，那么對于國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展也是一記重擊。

國產(chǎn)企業(yè)慶祝搬入ASML光刻機

但另一個方面的影響或許更值得關(guān)注——那就是現(xiàn)有光刻機的維護和調(diào)試等業(yè)務(wù)。自1988年ASML向中國出口第一臺步進式光刻機，在35年的漫長時間，中國已經(jīng)成長為ASML最大市場之一，光刻機總裝機量也早就超過了1000臺。

由于ASML在光刻機領(lǐng)域的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢，眾多國產(chǎn)芯片廠商也對ASML光刻機趨之若鶩，每次引進ASML光刻機都要大張旗鼓進行宣傳，這也使得ASML光刻機在國內(nèi)市場占有率不斷提升，所有企業(yè)都以擁有ASML光刻機為“榮耀”，在一定程度上也擠壓了國產(chǎn)光刻機的發(fā)展。

國產(chǎn)企業(yè)慶祝搬入ASML光刻機

如今隨著芯片三方協(xié)議的影響，以往追捧ASML光刻機的選擇也開始反噬。由于在光刻機等基礎(chǔ)領(lǐng)域投入不足，所有企業(yè)全部“一窩蜂式”地進入芯片制造行業(yè)，這也造成了相反的兩種情況——一面是芯片產(chǎn)能逐漸過剩，很多企業(yè)不得不打起價格戰(zhàn)；另一方面則是光刻機等基礎(chǔ)設(shè)備依然供不應(yīng)求，如今更是面臨限制的境地。

作為當(dāng)前工業(yè)技術(shù)上的明珠，ASML為了防止光刻機被逆向工程因此在所有設(shè)備中都加入了監(jiān)測模塊來監(jiān)控光刻機的狀態(tài)。在芯片三方協(xié)議逐漸落地之后，這1000臺ASML光刻機也成為巨大的不確定因素。一旦ASML不再為這些光刻機提供維修和維護、調(diào)試等服務(wù)，那么對于這些高度依賴ASML設(shè)備的國產(chǎn)芯片企業(yè)來說也將立刻“停擺”。

外媒報道內(nèi)容

因此外媒也報道ASML這一舉措扯下了國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的“遮羞布”，暴露出了真實水平。不可否認在一定程度上確實顯現(xiàn)出了一些問題，大量企業(yè)熱衷于芯片等“肉眼可見”的技術(shù)方向，卻很少有企業(yè)選擇對光刻機等基礎(chǔ)領(lǐng)域進行研發(fā)和投入，這也是造成如今困境的原因。

國產(chǎn)光刻機

但事實上國產(chǎn)企業(yè)并沒有止步不前，中科院微電子所與科益虹源完成了光刻機光源系統(tǒng)的研發(fā)、華卓精科與清華大學(xué)完成了雙工作臺系統(tǒng)的研發(fā)、浙江大學(xué)與啟爾機電成功研制出光刻機浸沒系統(tǒng)等等。在光刻機技術(shù)領(lǐng)域，國產(chǎn)企業(yè)也在奮起直追，試圖打破ASML一家獨大的態(tài)勢。

不可否認差距依然是存在的，在加入芯片三方協(xié)議之后，ASML的光刻機出口管制也將使得中國芯片產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)一些波折。但是從長遠來看，此舉也將引起多方對于國產(chǎn)光刻機的重視，并加大推動國產(chǎn)光刻機研發(fā)的力度。

國產(chǎn)芯片

就像我們在高鐵、國產(chǎn)大飛機、特高壓設(shè)備、光伏設(shè)備、盾構(gòu)機等領(lǐng)域取得突破一樣，當(dāng)光刻機領(lǐng)域追趕甚至完成反超之后，ASML又還能剩下些什么呢？而攻克下光刻機這個最后的堡壘或許將成為中國芯片崛起的標(biāo)志。